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高精度微纳3D打印系统采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。
更新时间：2025-09-09
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10微米高精度微纳3D打印系统是科研级和工业级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间：2025-09-09产品型号：浏览量：3529nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。
更新时间：2025-09-09产品型号：nanoArch S140浏览量：3931nanoArch P140 10μm精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间：2025-09-09产品型号：nanoArch P140浏览量：5041
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。
更新时间：2025-09-09产品型号：nanoArch S130浏览量：4629
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